1.

国際会議録
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1. Traceability,reproducibility,and comparability of grid calibrations
Bosse,H. ; Haessler-Grohne,W. ; Brendel,B.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part1  pp.477-483,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
2.

国際会議録
国際会議録
2. Comparison of linewidth measurements on COG masks
Bosse,H. ; Mirande,W. ; Frase,C.G. ; Bruck,H.-J. ; Lehnigk,S.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.99-108,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
3.

国際会議録
国際会議録
3. A Positron Lifetime and Doppler-Broadening Study of Vacancies and Precipitation in CuIn Alloys
Luhr-Tanck,W. ; Ederhof,M. ; Sager,A. ; Bosse,H.
出版情報: Vacancies and interstitials in metals and alloys : Proceedings of the International Conference on Vacancies and Interstitials in Metals and Alloys held in Berlin, Germany, September 14-19, 1986.  Pt.2  pp.629-634,  1987.  Aederlmannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 15-18
4.

国際会議録
国際会議録
4. Current activities in mask metrology at the PTB
Habler-Grhne,W. ; Bosse,H.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.386-394,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412
5.

国際会議録
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5. New electron microscope system for pattern placement metrology
Bosse,H. ; HaBler-Grohne,W.
出版情報: 17th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.160-169,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3236