1.

国際会議録
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1. High-performance 193-nm photoresist materials based on ROMA polymers: sub-90-nm contact hole application with resist reflow
Joo, H.S. ; Seo, D.C. ; Kim, C.M. ; Lim, Y.T. ; Cho, S.D. ; Lee, J.B. ; Song, J.Y. ; Kim, K.M. ; Park, J.H. ; Jung, J.C. ; Shin, K.S. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.126-133,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
2.

国際会議録
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2. Quencher gradient resist process for low-k process
Jung, J.C. ; Lee, S.K. ; Lee, W.W. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.63-70,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
3.

国際会議録
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3. 0.33-k1 ArF lithography for 100-nm DRAM
Bok, C.K. ; Kim, S.-K. ; Kim, H.-B. ; Oh, J.-S. ; Ahn, C.-N. ; Shin, K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.810-821,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
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4. High-etch-rate ArF BARC composed of polyester
Hwang, Y.S. ; Jung, J.C. ; Ban, K.D. ; Park, S. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.718-723,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
5.

国際会議録
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5. Novel rinse process for reducing pattern collapse in 0.30-k1 ArF lithography
Lee, G. ; Hwang, Y.S. ; Ban, K.D. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.813-818,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
6.

国際会議録
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6. PEB sensitivity variation of 193-nm resist according to activation energy of protection groups
Oh, S.K. ; Kim, J.Y. ; Lee, J.W. ; Kim, D. ; Kim, J. ; Lee, G. ; Jung, J.C. ; Bok, C.K. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.625-632,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
7.

国際会議録
国際会議録
7. Investigation of the effect of resist components and process condition on photochemical efficiency of ArF photoresist
Kim, J.-W. ; Son, E.-K. ; Lee, S.-H. ; Kim, D. ; Kim, J. ; Lee, G. ; Jung, J.C. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.599-607,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
8.

国際会議録
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8. New approach for pattern collapse problem by increasing contact area at sub-100nm patterning
Lee, S.-K. ; Jung, J.C. ; Lee, M.S. ; Lee, S.K. ; Kim, S.Y. ; Hwang, Y.-S. ; Bok, C.K. ; Moon, S.-C. ; Shin, K.S. ; Kim, S.-J.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.166-174,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039
9.

国際会議録
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9. Ring opened maleic anhydride and norbornene copolymers (ROMA) have a good character in resist flow process for 193-nm resist technology
Joo, H.-S. ; Seo, D.C. ; Kim, C.M. ; Lim, Y.T. ; Cho, S.D. ; Lee, J.B. ; Jeon, H.P. ; Park, J.H. ; Jung, J.C. ; Shin, K.S. ; Bok, C.K. ; Moon, S.-C.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.725-732,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039
10.

国際会議録
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10. Polarity effects of polymer on the 193-nm resist performance
Choi, Y.-J. ; Kim, J.-. ; Kim, J.-Y. ; Yim, Y.-G. ; Kim, J. ; Jung, J.-C. ; Min, M.-J. ; Bok, C.K. ; Shin, K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.781-788,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039