1.

国際会議録
国際会議録
1. Evaluation of Litel's in-situ interferometer (ISI) technique for measuring projection-lens aberrations: an initial study
Bisschop, P.D.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.11-23,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Status 157-nm lithography development at IMEC
Ronse, K.G. ; Bisschop, P.D. ; Eliat, A. ; Goethals, A.M. ; Hermans, J. ; Jonckheere, R. ; Heuvel, D.V.D. ; Roey, F.V. ; Beckx, S. ; Wouters, J.M. ; Marneffe, J.F. ; O'Neil, T. ; Tirri, B. ; Sewell, H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.640-649,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040