1.

国際会議録
国際会議録
1. AQUEOUS SINGLE PASS SINGLE WAFER AI/VIA CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Beaudry, C. ; Boelen, P.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.23-26,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. A STUDY OF METALLIC CONTAMINANTION REMOVAL AND ADDITION USING MODIFIED SC-I SOLUTIONS
Beaudry, C. ; Morinaga, H. ; Verhaverbeke, S.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.118-125,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26