1.

国際会議録
国際会議録
1. Optimal Size Distribution of CMP Slurries for Enhanced Polishing with Minimal Defects
Basim, G.B. ; Adler, J.J. ; Mahajan, U. ; Singh, R.K. ; Moudgil, B.M.
出版情報: Chemical mechanical planariarization in IC device manufacturing III : proceedings of the international symposium.  pp.369-381,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-37
2.

国際会議録
国際会議録
2. Developing Engineered Particulate Systems for Oxide Chemical Mechanical Polishing
Basim, G.B. ; Adler, J.J. ; Mahajan, U. ; Singh, R.K. ; Moudgil, B.M.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.45-55,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-26