1.

国際会議録
国際会議録
1. The EUV program at ASML: an update
Meiling, H. ; Banine, V. ; Kuerz, P. ; Blum, B.D. ; Heerens, G.J. ; Harned, N.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.24-35,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
2.

国際会議録
国際会議録
2. Debris mitigation for EUV sources using directional gas flows [6151-160]
Soer, W. ; Klunder, D. ; Van Herpen, M. ; Bakker, L. ; Banine, V.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies X.  pp.61514B-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6151
3.

国際会議録
国際会議録
3. Progress in the ASML EUV program
Meiling, H. ; Banine, V. ; Kuerz, P. ; Harned, N.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.31-42,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
4.

国際会議録
国際会議録
4. EUV lithography: main challenges
Banine, V. ; Benschop, J.P.
出版情報: Micro- and Nanoelectronics 2003.  pp.1-7,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5401
5.

国際会議録
国際会議録
5. Firstperformance results of the ASML alpha demo tool [6151-08]
Meiling, H. ; Meijer, H. ; Banine, V. ; Moors, R. ; Groeneveld, R. ; Voorma, H. J. ; Mickan, U. ; Wolschrijn, B ; Mertens, B ; Van Baars, G ; Kurz, P ; Harned, N
出版情報: Emerging Lithographic Technologies X.  pp.615108-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6151