1.

国際会議録
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1. Tailoring of isolation structures with top-surface imaging process by silylation
Kim,H.-G. ; Kim,M.-S. ; Bok,C.-K. ; Park,B.-J. ; Kim,J.-W. ; Baik,K.-H. ; Lee,D.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.554-561,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
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2. Novel single-layer photoresist containing cycloolefins for 193 nm
Park,J.-H. ; Seo,D.-C. ; Kim,K.-D. ; Park,S.-Y. ; Kim,S.-J. ; Lee,H. ; Jung,J.-C. ; Bok,C.-K. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.454-462,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
3.

国際会議録
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3. Feasibility studies of ArF Lithography for sub-130-nm lithography
Lee,S.-H. ; Yim,D. ; Ham,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Choi,I.H.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.290-301,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
4.

国際会議録
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4. TiSi-nitride-based attenuated phase-shift mask for ArF Lithography
Koo,S.-S. ; Hur,I.-B. ; Koo,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Choi,I.-H. ; Kim,L.-J. ; Park,K.-T. ; Shin,C.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.969-978,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
5.

国際会議録
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5. Environmentally stable chemically amplified positive resist containing vinyllactam terpolymers
Bok,C.-K. ; Koh,C.-W. ; Jung,M.-H. ; Baik,K.-H. ; Kim,J.-B. ; Cheong,J.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.501-511,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
6.

国際会議録
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6. ArF photoresist system using alicyclic polymer
Park,J.-H. ; Kim,S.-J. ; Park,S.-Y. ; Lee,H. ; Jung,J.-C. ; Bok,C.-K. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.485-491,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
7.

国際会議録
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7. Intrafield critical dimension variation using KrF scanner system for 0.18-ｦﾌm lithography
Yim,D. ; Kim,H.-S. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.77-91,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
8.

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8. Novel approximate model for resist process
Ahn,C.-N. ; Kim,H.-B. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.752-763,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
9.

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9. ArF photoresist containing novel acid labile cross-linker for high contrast and PED stability
Lee,G. ; Koh,C.-W. ; Hong,S.-E. ; Jung,J.-C. ; Jung,M.-H. ; Kim,H.-S. ; Baik,K.-H.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.13-22,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
10.

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10. Comparison study of mask error effects for various mask-making processes
Eom,T.-S. ; Hur,I.-B. ; Koo,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Choi,I.-H. ; Kim,D.Y. ; Shin,C.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.734-745,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873