1.

国際会議録
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1. A COMPARATIVE STUDY OF THE PHOTOABLATION OF POLYIMIDE-DOPED POLY(TETRAFLUOROETHYLENE) AT 308 NM AND 248 NM
D’Couto, G.C. ; Babu, S.V. ; Egitto, F.D. ; Davis, C.R.
出版情報: Laser ablation in materials processing : fundamentals and applications : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.157-162,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 285
2.

国際会議録
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2. Electrochemical Behavior of Metal-Doped Diamondlike Carbon (Me-DLC) Films in Aqueous Solutions
Sunkara, M. ; Wadsborn, M. ; Yeap, E. ; Ralchenko, V. ; Pypkin, B.N. ; Shubekin, M.L. ; Babu, S.V.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Diamond Materials.  pp.297-308,  1997.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-32
3.

国際会議録
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3. Resistance of a-C:H and a-C:H,F Films to Anodic Dissolution in Aqueous Electrolytes
Srividya, C. ; Sunkara, M. ; Babu, S.V.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Diamond Materials.  pp.324-339,  1997.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-32
4.

国際会議録
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4. Copper Dissolution and Chemical-Mechanical Polishing in Acidic Media
Luo, Q. ; Campbell, D.R. ; Babu, S.V.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Interconnect and Contact Metallization.  pp.73-83,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-31
5.

国際会議録
国際会議録
5. EXCIMER LASER APPLICATIONS: POLYMER ETCHING AND METAL DEPOSITION
Ritz, M. ; Srinivasan, V. ; Babu, S.V. ; Patel, R.C.
出版情報: Photon, beam, and plasma stimulated chemical processes at surfaces : symposium held December 1-4, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.433-442,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 75
6.

国際会議録
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6. 193-NM EXCIMER LASER-ASSISTED ETCHING OF POLYSILICON
Armacost, M.D. ; Babu, S.V. ; Nguyen, S.V. ; Rembetski, J.F.
出版情報: Science and technology of microfabrication : symposium held December 4-5, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.147-156,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 76
7.

国際会議録
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7. Effect of pH on Chemical-Mechanical Polishing of Copper and Tantalum
Jindal, Anurag ; Li, Ying ; Babu, S.V.
出版情報: Chemical-mechanical polishing 2001 -- advances and future challenges : symposium held April 18-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A..  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 671
8.

国際会議録
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8. Planarization of Cu and Ta Using Silica and Alumina Abrasives--- A Comparison
Li, Y. ; Ramarajan, S. ; Hariharapluhiran, M. ; Her, Y.S. ; Babu, S.V.
出版情報: Chemical mechanical polishing 2000 -- fundamentals and materials issues : symposium held April 26-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.E2.4-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 613
9.

国際会議録
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9. Role of Molecular Structure of Complexing/Chelating Agents in Copper CMP Slurries
Patri, Udaya B. ; Pandija, S. ; Babu, S.V.
出版情報: Chemical-mechanical planarization - integration technology and realiability : symposium held March 28-31, 2005, San Francisco, California, U.S.A..  pp.47-52,  2005.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 867
10.

国際会議録
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10. Novel Use of Surfactants in Copper Chemical Mechanical Polishing (CMP)
Hong, Youngki ; Patri, Udaya B. ; Ramakrishnan, Suresh ; Babu, S.V.
出版情報: Chemical-mechanical planarization - integration technology and realiability : symposium held March 28-31, 2005, San Francisco, California, U.S.A..  pp.41-46,  2005.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 867