1.

国際会議録
国際会議録
1. Pitch doubling through dual-patterning lithography challenges in integration and litho budgets
M. Dusa ; J. Quaedackers ; O. F. A. Larsen ; J. Meessen ; E. van der Heijden ; G. Dicker ; O. Wismans ; P. de Haas ; K. van I. Schenau ; J. Finders ; B. Vleeming ; G. Storms ; P. Jaenen ; S. Cheng ; M. Maenhoudt
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. Double patterning for 32nm and below: an update
J. Finders ; M. Dusa ; B. Vleeming ; H. Megens ; B. Hepp
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692408-1-692408-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924