1.

国際会議録
国際会議録
1. Relaxation of SiGe Films for the Fabrication of Strained Si Devices
Maa, J. S. ; Tweet, D. J. ; Lee, J. J. ; Hsu, S. T. ; Fujii, K. ; Naka, T. ; Ueda, T. ; Baba, T. ; Awaya, N. ; Sakiyama, K.
出版情報: Intergration of heterogeneous thin-film materials and devices : symposium held April 23-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.3-8,  2003.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 768
2.

国際会議録
国際会議録
2. Relaxation of SiGe Films for the Fabrication of Strained Si Devices
Maa, J. S. ; Tweet, D. J. ; Lee, J. J. ; Hsu, S. T. ; Fujii, K. ; Naka, T. ; Ueda, T. ; Baba, T. ; Awaya, N. ; Sakiyama, K.
出版情報: CMOS front-end materials and process technology : symposium held April 22-24, 2003, San Francisco, California, U.S.A..  pp.135-140,  2003.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 765