1.

国際会議録
国際会議録
1. Electrodes and Barriers for DRAM and FERAM: Processing, Integration, and Fundamentals
Saenger, K.L. ; Andricacos, P.C. ; Athavale, S.D. ; Baniecki, J.D. ; Cabral, C., Jr. ; Costrini, G. ; Kwietniak, K.T. ; Laibowitz, R.B. ; Lian, J.J. ; Limb, Y. ; Neumayer, D.A. ; Wise, M.L.
出版情報: Ferroelectric thin films IX : symposium held November 26-30, 2000, Boston, Massachusetts, U.S.A..  2001.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 655
2.

国際会議録
国際会議録
2. Chemical vapor deposition of Aluminum and Gallium Nitride thin films from metal organic precursors
Economou, D.J. ; Hoffman, D.M. ; Rangarajan, S.P. ; Athavale, S.D. ; Liu, J.-R. ; Zheng, Z. ; Chu, W.-K.
出版情報: Proceedings of the First Symposium on III-V Nitride Materials and Processes.  pp.69-75,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-11