1.

国際会議録
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1. AN ASSESSMENT OF ECR ARGON PLASMA ETCHING DAMAGE ON Si AND SiO2 INTERFACES
Nam, C. W. ; Ashok, S. ; Tsai, W. ; Day, M.E.
出版情報: Beam-solid interactions : fundamentals and applications : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.861-868,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 279
2.

国際会議録
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2. Low-k Dielectric Obtained by Noble Gas Implantation in Silicon Oxide
Assaf, H. ; Ntsoenzok, E. ; Ruault, M-O. ; Ashok, S.
出版情報: Materials, technology and reliability of low-k dielectrics and copper interconnects : symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A..  pp.439-444,  2006.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 914
3.

国際会議録
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3. ENVIRONMENTAL CRACKING OF AMORPHOUS ALLOYS
Ashok, S. ; Slavin, T. P. ; Stoloff, N. S. ; Glicksman, M. E.
出版情報: Rapidly solidified amorphous and crystalline alloys : proceedings of the Materials Research Society Annual Meeting, November 1981, Boston Park Plaza Hotel, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.309-316,  1982.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 8
4.

国際会議録
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4. INTERACTION OF ATOMIC HYDROGEN WITH ION BOMBARDMENTS INDUCED DEFECTS AT Si/SiO2 INTERFACES
Kar, S. ; Ashok, S.
出版情報: Amorphous insulating thin films : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.281-286,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 284
5.

国際会議録
国際会議録
5. Investigation of Defect Activation under Thermal Anneal in ECR H-Plasma Exposed Si
Chi, D.Z. ; Ashok, S. ; Theodore, D.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.162-168,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
6.

国際会議録
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6. Boron Implantation Into Silicon Subject To Hydrogen Plasma
Rangan, Sanjay ; Horn, Mark ; Ashok, S.
出版情報: Si front-end processing - physics and technology of dopant-defect interactions II : symposium held April 24-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.B5.7-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 610
7.

国際会議録
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7. ATOMIC HYDROGEN PASSIVATION OF HIGH ENERGY HYDROGEN IMPLANTS
Srikanth, K. ; Shenal, J. ; Ashok, S.
出版情報: Low energy ion beam and plasma modification of materials : symposium held April 30-May 2, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.241-248,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 223
8.

国際会議録
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8. HIGH PERFORMANCE THIN FILM TRANSISTORS FOR SCANNER APPLICATIONS
Hseig, B. -C. ; Hwakins, G. A. ; Ashok, S.
出版情報: Polysilicon thin films and interfaces.  pp.369-374,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 182
9.

国際会議録
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9. SUPPRESSION OF ACCEPTOR DEACTIVATION IN SILICON BY DISORDERED SURFACE REGIONS
Srikanth, K. ; Ashok, S.
出版情報: Materials issues in microcrystalline semiconductors : symposium held November 29-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.239-246,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 164
10.

国際会議録
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10. PLASMA HYDROGENATION STUDIES ON LOW-TEMPERATURE MBE-GROWN GaAs
Nakagawa, O. S. ; Ashok, S. ; Zhang, K. ; Miller, D. L. ; Chung, W. K.
出版情報: Defect engineering in semiconductor growth, processing and device technology : symposium held April 26-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.437-442,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 262