1.

国際会議録
国際会議録
1. Composition Self-Matching Phenomena in Chemical Vapor Deposition of (Ba, Sr) TiO3 Thin Films
Eguchi, K. ; Kyotoshi, M. ; Imai, K. ; Aoyama, T. ; Hieda, K. ; Arikado, T.
出版情報: Dielectric material integration for microelectronics.  pp.179-189,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-3
2.

国際会議録
国際会議録
2. Experimental Study of Degradation of Mechanical Strength of Silicon Wafer Caused by LSI processes
Yagishita, A. ; Fujii, O. ; Numano, M. ; Kawamura, N. ; Iwase, M. ; Ushiku, Y. ; Arikado, T.
出版情報: Proceedings of the Electrochemical Society Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.441-451,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-12
3.

国際会議録
国際会議録
3. Ultra-Low Thermal Budget CMOS Process for 65 nm-node Low-Operation-Power Applications (Invited paper)
Ootsuka, F. ; Mineji, A. ; Yamashita, K. ; Yasuhira, M. ; Arikado, T.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.111-117,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-06
4.

国際会議録
国際会議録
4. SINGLE-CRYSTAL SOLUTION SILICON ETCHING CHARACTERISTICS USING EXCIMER LASER Cl2 GAS
Arikado, T. ; Sekine, M. ; Okano, H. ; Horiike, Y.
出版情報: Laser-controlled chemical processing of surfaces : symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.167-172,  1984.  New York.  North-Holland
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 29
5.

国際会議録
国際会議録
5. High-endurance scalable PZT capacitors using thin SRO/Pt stacked electrodes
Yamakawa, K. ; Arisumi, O. ; Hidaka, O. ; Morimoto, T. ; Kunishima, I. ; Tanaka, S. ; Arikado, T.
出版情報: Ferroelectric thin films VIII : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.247-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 596
6.

国際会議録
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6. *Chemical vapor deposition and electrode technologies for (Ba,Sr) TiO3 capacitor used in gigabit DRAM
Eguchi, K. ; Hieda, K. ; Nakahira, J. ; Kiyotoshi, M. ; Nakabayashi, M. ; Yamazaki, S. ; Izuha, M. ; Aoyama, T. ; Tsunoda, K. ; Lin, J. ; Nakamura, K. ; Niwa, S. ; Tomita, H. ; Shimada, A. ; Kohyama, Y. ; Ishibashi, Y. ; Fukuzumi, Y. ; Arikado, T. ; Okumura, K.
出版情報: Ferroelectric thin films VIII : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.3-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 596