1.

国際会議録
国際会議録
1. Kinetics of the C49 to C54 Phase Transformation in TiSi2 Thin Films on Deep-Sub-Micron Lines
Kittl, J. A. ; Prinslow, D. A. ; Apte, P. P. ; Pas, M. F.
出版情報: Silicide thin films - fabrication, properties, and applications : Symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, USA.  pp.269-,  1996.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 402
2.

国際会議録
国際会議録
2. Optimization of Ti and Co Self-Aligned Silicide RTP for 0.10ｦﾌm CMOS
Kittl, J. A. ; Hong, Q. Z. ; Yang, H. ; Yu, N. ; Rodder, M. ; Apte, P. P. ; Shiau, W. T. ; Chao, C. P. ; Breedijk, T. ; Pas, M. F.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing VII : symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.331-,  1998.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 525
3.

国際会議録
国際会議録
3. Optimization of Ti and Co Self-Aligned Silicide RTP for 0.10 ｦﾌm CMOS
Kittl, J. A. ; Hong, Q. Z. ; Yang, H. ; Yu, N. ; Rodder, M. ; Apte, P. P. ; Shiau, W. T. ; Chao, C. P. ; Breedijk, T. ; Pas, M. F.
出版情報: Advanced interconnects and contact materials and processes for future integrated circuits : symposium held April 13-16, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.255-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 514