1.

国際会議録
国際会議録
1. EFFECTS OF RAPID THERMAL PROCESSING ON THERMAL OXIDES OF SILICON
Lee, S.K. ; Shih, D.K. ; Kwong, D.J. ; Alvi, N.S. ; Wu, N.R. ; Lee, H.S.
出版情報: Materials issues in silicon integrated circuit processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A..  pp.449-454,  1986.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 71
2.

国際会議録
国際会議録
2. DOPANT REDISTRIBUTION DURING Pd2Si FORMATION USING RAPID THERMAL ANNEALING
Alvi, N.S. ; Kwong, D.L. ; Hopkins, C.G. ; Bauman, S.G.
出版情報: Rapid thermal processing : symposium held December 2-4, 1985, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.73-82,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 52
3.

国際会議録
国際会議録
3. RAPID THERMAL ANNEALING OF ARSENIC-PHOSPHOROUS (N+-N-) DOUBLE-DIFFUSED SHALLOW JUNCTIONS
Kwong, D.L. ; Alvi, N.S. ; Ku, Y.H. ; Cheung, A.W.
出版情報: Rapid thermal processing : symposium held December 2-4, 1985, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.241-250,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 52
4.

国際会議録
国際会議録
4. ION-BEAM-MODIFIED INTERFACIAL GROWTH OF TUNGSTEN DISILICIDE
Ma, E. ; Alvi, N.S. ; Hamdi, A.H. ; Nicolet, M-A.
出版情報: Interfacial structure, properties, and design : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.579-584,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 122
5.

国際会議録
国際会議録
5. A NOVEL SILICIDED SHALLOW JUNCTION TECHNOLOGY FOR CMOS VLSI
Kwong, D.L. ; Ku, Y.H. ; Lee, S.K. ; Alvi, N.S. ; Chu, P. ; Zhou, Y. ; White, J.M.
出版情報: Materials issues in silicon integrated circuit processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A..  pp.379-386,  1986.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 71