1.

国際会議録
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1. Novel approximate model for resist process
Ahn,C.-N. ; Kim,H.-B. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.752-763,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
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2. Accuracy of diffused aerial image model for full-chip-level optical proximity correction
Hong,J.-S. ; Kim,H.-B. ; Yune,H.-S. ; Ahn,C.-N. ; Koo,Y.-M. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1024-1032,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
3.

国際会議録
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3. Validation of repair process for DUV attenuated phase-shift mask
Paek,S.W. ; Kim,H.-B. ; Ahn,C.-N. ; Koo,Y.-M. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.612-620,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
4.

国際会議録
国際会議録
4. Reduction of isolated-dense bias by optimization off-axis illumination for 150-nm lithography using KrF
Kim,S.-K. ; Ahn,C.-N. ; Kim,S.-M. ; Ham,Y.-M. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.691-696,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
5.

国際会議録
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5. Exposure latitude analysis for dense line and space patterns by using diffused aerial image model
Ahn,C.-N. ; Kim,H.-B. ; Baik,K.-H.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.665-675,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
6.

国際会議録
国際会議録
6. Application of alternating PSM to sub-quarter-micrometer technology using i-line lithography
Kim,H.-E. ; Ahn,C.-N. ; Kim,K.-Y. ; Baik,K.-H.
出版情報: 15th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.432-444,  1995.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2621
7.

国際会議録
国際会議録
7. Mask critical dimension error on optical lithography
Eom,T.-S. ; Koo,S.-S. ; Paek,S.-W. ; Kim,H.-B. ; Ahn,C.-N. ; Baik,K.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.32-39,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
8.

国際会議録
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8. Feasibility study on the ArF attenuated phase-shift mask for 100-nm node lithography
Koo,S.-S. ; Kim,S.-J. ; Paek,S.-W. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.770-777,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
9.

国際会議録
国際会議録
9. Application of full-chip level optical proximity correction to memory device with sub-0.10-μm design rule and ArF lithography
Yune,H.-S. ; Kim,H.-B. ; Kim,W.-H. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.241-250,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
10.

国際会議録
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10. Potentialities of sub-100-nm optical lithography of alternating and phase-edge phase-shift mask for ArF lithography
Koo,S.-S. ; Kim,H.-B. ; Yune,H.-S. ; Hong,J.-S. ; Paek,S.-W. ; Eom,T.-S. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Lee,K.-Y. ; Kim,L.-J. ; Kim,H.-S.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.346-358,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186