1.

国際会議録

国際会議録
Abe,N. ; Tanaka,K. ; Horie,T. ; Taki,H.
出版情報: Telemanipulator and telepresence technologies V : 4-5 November 1998, Boston, Massachusetts.  pp.151-158,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3524
2.

国際会議録

国際会議録
Mitao,N. ; Abe,N. ; Kawata,A. ; Tanaka,K. ; Yamamoto,Y. ; Minagawa,T. ; Uraguchi,M. ; Ogawa,M.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.53-60,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
3.

国際会議録

国際会議録
Ozawa,K. ; Abe,N.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.554-561,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
4.

国際会議録

国際会議録
Abe,N. ; Ushigami,Y. ; Takahashi,N.
出版情報: Grain growth in polycrystalline materials II : proceedings of the 2nd International Conference on Grain Growth in Polycrystalline Materials, held in Kitakyushu, Japan, 17-20 May, 1995.  pp.581-586,  1996.  Zurich-Uetikon, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 204-206
5.

国際会議録

国際会議録
Abe,N. ; Motoyama,T.
出版情報: Plasma properties, deposition and etching.  pp.727-740,  1993.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 140-142
6.

国際会議録

国際会議録
Ozawa,K. ; Abe,N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.351-355,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
7.

国際会議録

国際会議録
Mitao,N. ; Abe,N. ; Sugimura,M.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.292-296,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412
8.

国際会議録

国際会議録
Kawata,A. ; Ozawa,K. ; Abe,N. ; Yamashiro,K. ; Aizawa,T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.252-260,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066