1.

国際会議録
国際会議録
1. Electroless Deposited Nickel Hard Mask for High Density Plasma Etching Applications
A.M. Nunes ; S.A. Moshkalev ; A. Flacker ; P. Jurgen Tatsch ; E. Besseler
出版情報: Microelectonics Technology and Devices - SBMicro 2008.  pp.403-411,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 14(1)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Evaluation of Load Parameters and Hold Time of a Vickers Ultra-Micro Hardness Tester for Measure of Hardness and Modulus of Elasticity of Dental Composites
T.C.F. Melo-Silva ; C.L. Melo-Silva ; C.F. Carvalho ; A.B. Teixeira ; E.C. Carvalho ; A.S. Carvalho ; F.A. Araujo ; A.M. Nunes ; J.F.C. Lins ; J.P. Gouvêa
出版情報: The 60th Brazilian Ceramic Conference.  pp.130-135,  2018.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 912