1.

国際会議録
国際会議録
1. Improvement of the common DoF across field for hole-structure process layers
S. H. Hou ; E. Huang ; A. Tseng ; M. Yeh ; B. Lin
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.692434-1-692434-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
2.

国際会議録
国際会議録
2. Non-topcoat resist design for immersion process at 32-nm node
S. Wu ; A. Tseng ; B. Lin ; C. C. Yu ; B.-J. Lu
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXV.  1  pp.692307-1-692307-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6923
3.

国際会議録
国際会議録
3. Line width roughness (LWR) performance of novel surface conditioner solutions for immersion lithography
B. J. Lu ; E. T. Liu ; A. Zeng ; A. Tseng ; S. Wu
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXV.  2  pp.69233G-1-69233G-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6923