1.

国際会議録
国際会議録
1. Electroless Deposited Nickel Hard Mask for High Density Plasma Etching Applications
A.M. Nunes ; S.A. Moshkalev ; A. Flacker ; P. Jurgen Tatsch ; E. Besseler
出版情報: Microelectonics Technology and Devices - SBMicro 2008.  pp.403-411,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 14(1)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Electrical Characterization of Multi-Walled Carbon Nanotubes in 2 and 4 Terminals Configurations
J. Leon ; S.A. Moshkalev ; A. Flacker ; A. Vaz ; C. Veríssimo
出版情報: Microelectonics Technology and Devices - SBMicro 2008.  pp.423-432,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 14(1)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Contact Improvement for Carbon Nanotubes Deposited by Dielectrophoresis
J. Leon ; A. R. Vaz ; A. Flacker ; S. A. Moshkalev ; M. B. de Moraes ; J. W. Swart
出版情報: Microelectronics Technology and Devices : SBMICRO 2007.  pp.213-218,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 9(1)