1.

国際会議録
国際会議録
1. Evaluating a scatterometry-based focus monitor technique for hyper-NA lithography
C. S. Saravanan ; S. Nirmalgandhi ; O. Kritsun ; A. Acheta ; R. Sandberg ; B. L. Fontaine ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Evaluating the performance of a 193-nm hyper-NA immersion scanner using scatterometry
O. Kritsun ; B. L. Fontaine ; R. Sandberg ; A. Acheta ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici ; C. Saravanan ; K. Primak ; R. Korlahalli ; S. Nirmalgandhi
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
国際会議録
3. A lithographic and process assessment of photoresist stabilization for double-patterning using 172-nm photoresist curing
N. Bekiaris ; H. Cervera ; J. Dai ; R. Kim ; A. Acheta
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXV.  2  pp.692321-1-692321-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6923
4.

国際会議録
国際会議録
4. Line-edge roughness in 193-nm resists: lithographic aspects and etch transfer
T. Wallow ; A. Acheta ; Y. Ma ; A. Pawloski ; S. Bell ; B. Ward ; C. Tabery ; B. L. Fontaine ; R. Kim ; S. McGowan ; H. J. Levinson
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6519