1.

国際会議録
国際会議録
1. NANOSCALE PARTICLES REMOVAL ON AN EXTREME ULTRA-VIOLET LITHOGRAPHY (EUVL) MASK LAYER BY LASERSHOCK CLEANING
S.-H. Lee ; S.-H Lee ; J.-G. Park ; A. A. Busnaina ; J.-M. Lee ; T.-H. Kim ; G. Zhang ; F. Eschbach ; A. Ramamoorthy
出版情報: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX.  pp.26-32,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(3)
2.

国際会議録
国際会議録
2. EFFECT OF CORROSION INHIBITOR, lH-BENZOTRJAZOLE (BTAH) ON PARTICLE ADHESION IN Cu CMP
J.-H. Song ; Y.-K. Hong ; T.-G. Kim ; Y.-J. Kang ; I.-K. Kim ; J.-H. Han ; J.-G. Park ; A. A. Busnaina
出版情報: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing IX.  pp.341-348,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(3)