1.

国際会議録
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1. Optimal proximity correction: application for flash memory design
Chen,Y.G. ; Huang,D.L. ; Sung,K.T. ; Chiang,J.J. ; Yu,M. ; Teng,F. ; Chu,L. ; Rey,J.C. ; Bernard,D.A. ; Li,J. ; Moroz,V. ; Boksha,V.V.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.874-884,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
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2. Comparison of different optical proximity correction models with three-dimensional photolithography simulation over planar substrates (Invited Paper)
Rey,J.C. ; Li,J. ; Boksha,V.V. ; Bernard,D.A.
出版情報: Microlithographic Techniques in IC Fabrication.  pp.68-81,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3183
3.

国際会議録
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3. Sub-half-micron contact window design with 3D photolithography simulator
Brainerd,S.K. ; Bernard,D.A. ; Rey,J.C. ; Li,J. ; Granik,Y. ; Boksha,V.V.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.552-566,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
4.

国際会議録
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4. Model-based optical proximity correction including effects of photoresist processes
Li,J. ; Bernard,D.A. ; Rey,J.C. ; Boksha,V.V.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.643-651,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
5.

国際会議録
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5. Efficient computational techniques for aerial imaging simulation
Bernard,D.A. ; Li,J. ; Rey,J.C. ; Rouz,K. ; Axelrad,V.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part1  pp.273-287,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726