1.

国際会議録
国際会議録
1. FACET FORMATION OF LINESHAPED SILICON MESAS GROWN WITH MICRO SHADOW MASKS
Gossner, H. ; Fehlauer, G. ; Kiunke, W. ; Eisele, I. ; Stolz, M. ; Hintermaier, M. ; Knapek, E.
出版情報: Molecularly designed ultrafine/nanostructured materials : symposium held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S.A..  pp.393-,  1994.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 351
2.

国際会議録
国際会議録
2. SIMULATION OF BURIED LAYER EXPERIMENTS CONTAIN- ING ALL FOUR DOPANT SPECIES
Ghaderi, K. ; Hobler, G. ; Budil, M. ; Poetzl, H. ; Pichler, P. ; Ryssel, H. ; Hansch, W. ; Eisele, I. ; Tian, C. ; Stingeder, G.
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.613-624,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-10