1.

国際会議録
国際会議録
1. 34 Rapid thermal annealing of atomic layer deposited hafnium-silicate/poly-silicon layers
Rittersma, Z.M. ; Massoubre, D. ; Roozeboorn, F. ; Verheijen, M.A. ; van Berkum, J.G.M ; Tamminga, Y. ; Dao, F. ; Snijders, J.H.M ; Vainonen-Ahigren, E. ; Fois, F. ; Tuominen, M. ; Haukka, S.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.273-280,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-14
2.

国際会議録
国際会議録
2. Role of Silicon and Boron Interstitial Clusters in Transient Enhanced Diffusion
Cowern, N.E.B. ; Mannino, G. ; Roozeboom, F. ; van Berkum, J.G.M ; Colombeau, B. ; Claverie, A.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies : proceedings of the international symposium.  pp.61-72,  2000.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-9