1.

国際会議録
国際会議録
1. Reliable materials and instruments for 157-nm lithography (Abstract Only)
Vogler,K. ; Voss,F. ; Bergmann,E. ; Stamm,U. ; Walecki,W.J. ; Basting,D.
出版情報: Laser-induced damage in optical materials, 2000 : 32nd Annual Boulder Damage Symposium, proceedings, 16-18, October, 2000, Boulder, Colorado.  pp.445-446,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4347
2.

国際会議録
国際会議録
2. Development and characterization of advanced F2 laser source for 157-nm lithography (Abstract Only)
Vogler,K. ; Voss,F. ; Bergmann,E. ; Stamm,U. ; Govorkov,S.V. ; Hua,G. ; Walecki,W.J.
出版情報: Laser-induced damage in optical materials, 2000 : 32nd Annual Boulder Damage Symposium, proceedings, 16-18, October, 2000, Boulder, Colorado.  pp.444-444,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4347
3.

国際会議録
国際会議録
3. Long-term test and characterization of optical components at 193 nm and 157 nm
Vogler,K. ; Klaft,I. ; Schroder,T. ; Stamm,U. ; Mann,K.R. ; Apel,O. ; Gorling,C. ; Leinhos,U.
出版情報: Inorganic optical materials II : 1-3 August, 2000, San Diego, USA.  pp.255-260,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4102
4.

国際会議録
国際会議録
4. Advanced F2 lasers for microlithography
Vogler,K. ; Stamm,U. ; Bragin,I. ; Voss,F. ; Govorkov,S.V. ; Hua,G. ; Kleinschmidt,J. ; Patzel,R.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1515-1528,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
5.

国際会議録
国際会議録
5. Advanced F2 lasers for 157-nm lithography
Vogler,K. ; Klaft,I. ; Voss,F. ; Bragin,I. ; Bergmann,E. ; Nagy,T. ; Niemoeller,N. ; Paetzel,R. ; Govorkov,S.V. ; Hua,G.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.1175-1182,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
6.

国際会議録
国際会議録
6. High-power 193-nm excimer lasers for DUV lithography
Patzel,R. ; Vogler,K. ; Albrecht,H.S. ; Schroder,T. ; Bragin,I. ; Kleinschmidt,J. ; Zschocke,W.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.577-584,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346