1.

国際会議録
国際会議録
1. ArF excimer laser for 193-nm lithography
Stamm,U. ; Patzel,R. ; Kleinschmidt,J. ; Vogler,K. ; Zschocke,W. ; Bragin,I. ; Basting,D.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.1010-1013,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
国際会議録
2. High-repetition-rate excimer lasers for DUV Lithography
Stamm,U. ; Paetzel,R. ; Bragin,I. ; Berger,V. ; Klaft,I. ; Kleinschmidt,J. ; Osmanov,R. ; Schroeder,T. ; Vogler,K. ; Zschocke,W. ; Basting,D.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.1050-1057,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. Excimer laser for 157-nm lithography
Stamm,U. ; Bragin,I. ; Govorkov,S.V. ; Kleinschmidt,J. ; Patzel,R. ; Slobodtchikov,E. ; Vogler,K. ; F.Voｦﾂ ; Basting,D.
出版情報: Emerging lithographic technologies III : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.816-826,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3676