1.

国際会議録
国際会議録
1. MOBILITY IMPROVEMENT MECHANISM IN a-Si:H TFTs WITH SMOOTH a-Si:H/SiNX INTERFACE
Takechi, K. ; Uchida, H. ; Kaneko, S.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1992.  pp.955-960,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 258
2.

国際会議録
国際会議録
2. Gated RF-Discharge Plasma-CVD Technology for a-Si:H TFT Fabrication
Takechi, K. ; Hayama, H. ; Uchida, H.
出版情報: Proceedings of the Second Symposium on Thin Film Transistor Technologies.  pp.160-173,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-35