1.

国際会議録
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1. AN ASSESSMENT OF ECR ARGON PLASMA ETCHING DAMAGE ON Si AND SiO2 INTERFACES
Nam, C. W. ; Ashok, S. ; Tsai, W. ; Day, M.E.
出版情報: Beam-solid interactions : fundamentals and applications : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.861-868,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 279
2.

国際会議録
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2. PLASMA DIAGNOSTICS AND MODELING OF Ti/Tn REACTIVE SPUTTERING
Tsai, W. ; Fair, J. ; Hodul, D.
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.793-798,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
3.

国際会議録
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3. Highly Selective Etch of SiO2 for High Aspect Ratio Sub-0.5 um Holes
Zhu, H. ; Mueller, G. ; Nguyen, T. ; Tsai, W.
出版情報: Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications, Thin Film Processes.  pp.115-120,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-30
4.

国際会議録
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4. Simulation of Uniformity and Lifetime Effects in Collimated Sputtering
Tait, R. N. ; Dew, S. K. ; Tsai, W. ; Hodul, D. ; Brett, M. J. ; Smy, T.
出版情報: Rapid thermal and integrated processing IV : symposium held April 17-20, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.107-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 387
5.

国際会議録
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5. EFFECTS OF LOW-TEMPERATURE SURFACE CLEANING USING ECR HYDROGEN PLASMA
Nam, C. W. ; Ashok, S. ; Tsai, W. ; Day, M. E.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.279-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
6.

国際会議録
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6. Simulation of Uniformity and Lifetime Effects in Collimated Sputtering
Tait, R. N. ; Dew, S. K. ; Tsai, W. ; Hodul, D. ; Brett, M. J. ; Smy, T.
出版情報: Modeling and simulation of thin-film processing : symposium held April 17-20, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.373-,  1995.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 389