1.

国際会議録

国際会議録
Vijayakumar, A. ; Du, T. ; Sundaram, K.B. ; Desai, V.
出版情報: Thin film materials, processes, and reliability, plasma processing for the 100 nm node and copper interconnects with low-k inter-level dielectric films : proceedings of the international symposium.  pp.164-173,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-13
2.

国際会議録

国際会議録
flu, T ; Desai, V. ; Ta, D. ; Cliathapuram, nboli; V. ; Sundaram, K.B.
出版情報: Copper interconnects, new contact metallurgies, structures, and low-k interlevel dielectrics : proceedings of the internatioal symposium.  pp.235-245,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-22
3.

国際会議録

国際会議録
Sundaram, K.B. ; Sah, R.E. ; Balachandran, K.
出版情報: Plasma processing XIII : proceedings of the international symposium.  pp.34-41,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-6
4.

国際会議録

国際会議録
Bosq, T.W.D. ; Peale, R.E. ; Nelson, E.W. ; Muravjov, A.V. ; Walters, D.A. ; Subramanian, G. ; Sundaram, K.B. ; Fredricksen, C.J.
出版情報: Chemical and biological sensing IV : 21-22 April, 2003, Orlando, Florida, USA.  pp.119-125,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5085