1.

国際会議録
国際会議録
1. Aggregate Behavior in Metal CMP Slurries
Tamboli, D.C. ; Desai, V.H. ; Dogariu, A. ; Sundaram, K.B. ; Maury, A. ; Obeng, Y.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Chemical Mechanical Planariarization [sic] in Integrated Circuit Device Manufacturing.  pp.206-217,  1998.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-7
2.

国際会議録
国際会議録
2. Studies on Cerium Dioxide as a Gate Oxide Material for MOS Transistors
Sundaram, K.B. ; Blanchard, J.A.
出版情報: Dielectric material integration for microelectronics.  pp.206-215,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-3
3.

国際会議録
国際会議録
3. Photoluminescence Studies of Thermally Impurity Diffused Porous Silicon Layers
Sundaram, K.B. ; Ali, S.A. ; Peale, R.E. ; McClintic., W.A., Jr.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Nanostructured Materials in Electrochemistry.  pp.15-26,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-8
4.

国際会議録
国際会議録
4. Fabrication of Metal Insulator Field Effect Tran-sistors Using Silcon Nitride and Silicon-Oxyni-tride as Gate Insulators
Sundaram, K.B. ; Seshan, S.S.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films.  pp.143-152,  1997.  Pennington, New Jersey.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-10
5.

国際会議録
国際会議録
5. Deposition Parameter Studies Of Silicon Nitride Films Prepared By PECVD Process And Their Applications To Surface Acoustic Wave Devices
Sundaram, K.B. ; Lee, R. ; Malocha, D.C. ; Hines, J.H.
出版情報: Proceedings of the third Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films.  pp.198-207,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-16