1.

国際会議録
国際会議録
1. 0.13 μm CMOS Technology with Optimized Poly-Si/No-Oxide Gate Stack
Kubicek, S. ; Jansen, P. ; Badenes, G. ; Schaekers, M. ; Koldyaev, V. ; Deferm, L. ; De Meyer, K. ; Kerr, D. ; Naem, A.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.193-202,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
2.

国際会議録
国際会議録
2. Chlorine Precursors for Gate Oxidation Processes
McGeary, M. J. ; Martens, P. W. ; Vermeire, B. ; Heyns, M. ; Sprey, H. ; Lubbers, A. ; Schaekers, M.
出版情報: Environmental, safety, and health issues in IC production : symposium held December 4-5, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.115-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 447
3.

国際会議録
国際会議録
3. Effect of Cl in Gate Oxidation
Mertens, P. W. ; McGeary, M. J. ; Schaekers, M. ; Sprey, H. ; Vermeire, B. ; Depas, M. ; Meuris, M. ; Heyns, M. M.
出版情報: Science and technology of semiconductor surface preparation : symposium held April 1-3, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.89-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 477
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effect of Cl in Gate Oxidation
Mertens, P. W. ; McGeary, M. J. ; Schaekers, M. ; Sprey, H. ; Vermeire, B. ; Depas, M. ; Meuris, M. ; Heyns, M. M.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VII : symposium held April 8-12, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.149-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 473