1.

国際会議録
国際会議録
1. Implications of wafer design for manufacturing practices on photomask manufacturing
Watts, A. ; Rankin, J. ; Magg, C.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.599227-599227,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
2.

国際会議録
国際会議録
2. Subresolution assist feature implementation for high-performance logic gate-level lithography
Gabor, A.H. ; Bruce, J. ; Chu, W. ; Ferguson, R. ; Fonseca, C.A. ; Gordon, R.L. ; Jantzen, K. ; Khare, M. ; Lavin, M. ; Lee, W.-H. ; Liebmann, L.W. ; Muller, k.P. ; Rankin, J. ; Varekamp, P. ; Zach, F.X.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.418-425,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
国際会議録
3. Migration of 90-nm mask and wafer lithography learning into 130-nm mask production to improve performance and yield
Watts, A. ; Wang, Y.J. ; Rankin, J.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.324-330,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256