1.

国際会議録
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1. Optical extension at the 193-nm wavelength
Zandbergen,P. ; McCallum,M. ; Amblard,G.R. ; Domke,W.-D. ; Smith,B .W. ; Zavyalova,L. ; Petersen,J.S.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.310-319,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
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2. Effect of phase error on 180-nm and 250-nm grouped-line KrF lithography using an alternating phase-shift mask
Petersen,J.S. ; Williams,A.M. ; Rich,G.K. ; Miller,D.A. ; Martinez,A.M.,Jr.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.375-382,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
3.

国際会議録
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3. Resolution and DOF improvement through the use of square-shaped illumination
Smith,B.W. ; Zavyalova,L. ; Smith,S.G. ; Petersen,J.S.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.408-419,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
4.

国際会議録
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4. Assessment of a hypothetical road map that extends optical lithography through the 70-nm technology node
Petersen,J.S. ; McCallum,M. ; Kachwala,N. ; Socha,R.J. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Smith,B.W. ; Gordon,R.L. ; Mack,C.A.
出版情報: Lithography for semiconductor manufacturing : 19-21 May 1999, Edinburgh, Scotland.  pp.73-89,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3741
5.

国際会議録
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5. Imaging contrast improvement for 160-nm line features using subresolution assist features with binary,six percent ternary attenuated phase-shift mask with process-tuned resist
Kachwala,N. ; Petersen,J.S. ; Chen,J.F. ; Canjemi,M. ; McCallum,M.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.55-67,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
6.

国際会議録
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6. Design of 200-nm,170-nm,and 140-nm DUV contact sweeper high-transmission attenuating phase-shift mask:?.Experimental results
Socha,R.J. ; Shi,X. ; Holman,K.C. ; Dusa,M.V. ; Conley,W. ; Petersen,J.S. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F. ; Chu,M.C. ; Su,C. ; Huang,K. ; Chen,C. ; Le,C. ; Pierrat,C. ; Su,B.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.38-54,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
7.

国際会議録
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7. Calibration of chemically amplified resist models
Byers,J.D. ; Petersen,J.S. ; Sturtevant,J.L.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIII : 11-13 March 1996, San Clara, California.  pp.156-162,  1996.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2724
8.

国際会議録
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8. Removable organic antireflection coating
Sturtevant,J.L. ; Insalaco,L.J. ; Flaim,T. ; Krishnamurthy,V. ; Meador,J.D. ; Petersen,J.S. ; Eckert,A.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIII : 11-13 March 1996, San Clara, California.  pp.738-746,  1996.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2724
9.

国際会議録
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9. Aberration evaluation and tolerancing of 193-nm lithographic objective lenses
Smith,B.W. ; Webb,J.E. ; Petersen,J.S. ; Meute,J.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.269-280,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
10.

国際会議録
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10. Illumination pupil filtering using modified quadrupole apertures
Smith,B.W. ; Zavyalova,L. ; Petersen,J.S.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.384-394,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334