1.

国際会議録
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1. CHEMICAL REACTION PATHWAYS FOR THE DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON-HYDROGEN ALLOYS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD
Parsons, G.N. ; Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.263-268,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
2.

国際会議録
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2. THE EFFECT OF INTRINSIC IN-PLANE STRESS ON THE LOCAL ATOMIC STRUCTURE OF THEMALLY GROWN SIO2
Fitch, J.T. ; Bjorkman, C.H. ; Sumakeris, J.J. ; Lucovsky, G.
出版情報: Thin films : stresses and mechanical properties : symposium held November 28-30, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.289-294,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 130
3.

国際会議録
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3. ESTIMATION OF DEFECT STATE DENSITIES FROM BULK PHOTOELECTRONIC PROPERTIES OF A-SI,Ge:H ALLOYS
Parsons, G. N. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon semiconductors -- Pure and hydrogenated : symposium held April 21-24, 1987, Anaheim, California, U.S.A..  pp.341-346,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 95
4.

国際会議録
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4. STRESS GRADIENTS IN SiO2 THIN FILMS PREPARED BY THERMAL OXIDATION AND SUBJECTED TO RAPID THERMAL ANNEALING
Bjorkman, C. H. ; Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal annealing/chemical vapor deposition and integrated processing : sympoisium held April 25-28, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.197-202,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 146
5.

国際会議録
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5. SILICON SUBOXIDES: THE "CO-DEPOSITION" OF a-Si:H AND SiO2
Tsu, D.V. ; Lucovsky, G. ; Watkins, M.W.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.289-294,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
6.

国際会議録
国際会議録
6. THE EFFECTS OF SURFACE TREATMENT FOR LOW TEMPERATURE SILICON DIOXIDE DEPOSITION ON CADMIUM TELLURIDE
Choi, Seong S. ; Kim, S.S. ; Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.313-318,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
7.

国際会議録
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7. RAPID THERMAL ANNEALING OF LOW TEMPERATURE SILICON DIOXIDE FILMS
Fitch, J. T. ; Lucovsky, G.
出版情報: Rapid thermal processing of electronic materials : symposium held April 21-23, 1987, Anaheim California, U.S.A..  pp.89-94,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 92
8.

国際会議録
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8. THE GROWTH OF SILICON OXIDE FILMS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD
Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Interfaces, superlattices, and thin films : symposium held December 1-6, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.595-602,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 77
9.

国際会議録
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9. THE EFFECTS OF SURFACE AND INTERFACE DEPLETION REGIONS ON THE PHOTOCONDUCTIVITY OF a-Si:H IN SURFACE CELL STRUCTURES
Parson, G.N. ; Kusano, C. ; Lucovsky, G.
出版情報: Interfaces, superlattices, and thin films : symposium held December 1-6, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.589-594,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 77
10.

国際会議録
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10. FORMATION OF DIVICE QUALITY Si/SiO2 INTERFACES IN A MULTICHAMBER INTEGRATED PROCESSING SYSTEM
Kim, S. S. ; Tsu, D. V. ; Lucovsky, G. ; Fountain., G. G. ; Markunas, R. J
出版情報: Rapid thermal annealing/chemical vapor deposition and integrated processing : sympoisium held April 25-28, 1989, San Diego, California, U.S.A..  pp.327-332,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 146