1.

国際会議録
国際会議録
1. Quencher gradient resist process for low-k process
Jung, J.C. ; Lee, S.K. ; Lee, W.W. ; Bok, C.K. ; Moon, S.C. ; Shin, K.S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.63-70,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
2.

国際会議録
国際会議録
2. New approach for pattern collapse problem by increasing contact area at sub-100nm patterning
Lee, S.-K. ; Jung, J.C. ; Lee, M.S. ; Lee, S.K. ; Kim, S.Y. ; Hwang, Y.-S. ; Bok, C.K. ; Moon, S.-C. ; Shin, K.S. ; Kim, S.-J.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.166-174,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039