1.

国際会議録
国際会議録
1. EFFECTS OF RAPID THERMAL PROCESSING ON THERMAL OXIDES OF SILICON
Lee, S.K. ; Shih, D.K. ; Kwong, D.J. ; Alvi, N.S. ; Wu, N.R. ; Lee, H.S.
出版情報: Materials issues in silicon integrated circuit processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A..  pp.449-454,  1986.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 71
2.

国際会議録
国際会議録
2. A NOVEL SILICIDED SHALLOW JUNCTION TECHNOLOGY FOR CMOS VLSI
Kwong, D.L. ; Ku, Y.H. ; Lee, S.K. ; Alvi, N.S. ; Chu, P. ; Zhou, Y. ; White, J.M.
出版情報: Materials issues in silicon integrated circuit processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A..  pp.379-386,  1986.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 71