1.

国際会議録
国際会議録
1. EVALUATION OF MEGASONIC CLEANING SYSTEMS FOR PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY AND DAMAGING
Vereecke, G. ; Holsteyns, F. ; Veltens, J. ; Lux, M. ; Amauts, S. ; Kenis, K. ; Vos, R. ; Mertens, P. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.145-152,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. SUB 1OOnm PARTICLE REMOVAL WITH DEIONIZED WATER AND A MEGASONIC FREQUENCY OF 835kHz
Lauerhaas, J. ; Wu, Y. ; Xu, K. ; Vereecke, G. ; Vos, R. ; Kenis, K. ; Mertens, P. ; Nicolosi, T. ; Heyns, M.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.147-155,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26