1.

国際会議録
国際会議録
1. SILICON SURFACES EXPOSED TO ANHYDROUS HF/CH3OH ETCHING
Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.384-391,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
2.

国際会議録
国際会議録
2. REMOVAL OF Al FROM SILICON SURFACES USING UV/Cl2
Daffron, C. ; Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.281-287,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
3.

国際会議録
国際会議録
3. CLEANING OF SILICON SURFACE AFTER RIE USING UV/OZONE AND HF/CH3OH
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.401-408,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7