1.

国際会議録
国際会議録
1. Defects analysis of mask blanks
Lee,D.H. ; Kim,D.W. ; Lee,J.K. ; Jeong,W.G. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.-M. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.571-576,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
2.

国際会議録
国際会議録
2. Dry etching characteristics of attenuated phase-shifting masks using Cl2/CF4/O2/He plasmas
Choi,S.J. ; Cha,H.-S. ; Yoon,S.-Y. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.561-570,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
3.

国際会議録
国際会議録
3. Evaluation of various alternating phase shifting mask processes for KrF lithography
Yoon,S.-Y. ; Cha,H.-S. ; Choi,S.-J. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1017-1025,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
4.

国際会議録
国際会議録
4. Optimization of alternating phase shifting mask structure
Cha,H.-S. ; Choi,S.-J. ; Yoon,S.-Y. ; Jung,S.-M. ; Choi,S.-S. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.1008-1016,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562