1.

国際会議録
国際会議録
1. The Growth of Homoepitaxial Silicon at Low Temperatures Using Hot Wire Chemical Vapor Deposition
Thiesen, J. ; Jones, K. M. ; Matson, R. ; Reedy, R. ; Iwaniczko, E. ; Mahan, H. ; Crandall, R.
出版情報: Epitaxial growth - principles and applications : symposium held April 5-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.261-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 570
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Use of Electron Channeling Patterns for Process Optimization of Low-Temperature Epitaxial Silicon Using Hot-Wire Chemical Vapor Deposition
Matson, R. ; Thiesen, J. ; Jones, K. M. ; Crandall, R. ; Iwaniczko, E. ; Mahan, H.
出版情報: Epitaxial growth - principles and applications : symposium held April 5-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.135-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 570