1.

国際会議録
国際会議録
1. Trends in SiGe BiCMOS Process Integration
Harame, D. ; Subbanna, S. ; Dunn, J. ; St Onge, S.A. ; Freeman, G. ; Malinowski, J. ; Groves, R. ; Joseph, A. ; Ahlgren, D. ; Johnson, R. ; Zierak, M. ; Coolbaugh, D.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.143-146,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
2.

国際会議録
国際会議録
2. Remote Plasma-Enhanced-Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Zirconium Oxide/Silicon Oxide Alloy, (ZrO2)x-(SiO2)1-x (x ｡？0.5), Thin Films for Advanced High-K Gate Dielectrics
Wolfe, D. ; Flock, K. ; Therrien, R. ; Johnson, R. ; Rayner, B. ; Gunther, L. ; Brown, N. ; Claflin, B. ; Lucovsky, G.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.343-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567