1.

国際会議録
国際会議録
1. Monitoring of Mobile Sodium Ions in SiO2 Using Corona Charging
Stevie, F.A. ; Persson, E. ; DeBusk, D.K. ; Savchuk, A. ; Hoff, A.M. ; Edelman, P. ; Lagowski, J.
出版情報: Proceedings of the Electrochemical Society Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.357-364,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-12
2.

国際会議録
国際会議録
2. SURFACE PHOTOVOLTAGE MEASUREMENTS OF CONTAMINATION INTRODUCED BY RESIST ASHING PROCESSES
Hoff, A.M. ; Persson, E.J.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.587-593,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
3.

国際会議録
国際会議録
3. CONTROL OF MANUFACTURING CLEANING OPERATIONS USING SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHMQUES
Hoff, A.M. ; Persson, E.J. ; Chacon, J. ; DeSelms, B.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.522-529,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
4.

国際会議録
国際会議録
4. Surface Photovoltage Characterization of Low Temperature Annealed LPCVD Silicon on Glass
Sen, S. ; Hoff, A.M. ; Moradi, B. ; Lagowski, J. ; Jastrzebski, L.
出版情報: Proceedings of the Second Symposium on Thin Film Transistor Technologies.  pp.269-278,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-35
5.

国際会議録
国際会議録
5. Whole-Wafer Plasma Damage Evaluation
Hoff, A.M. ; Lagowski, J. ; Nauka, N. ; Esry, T.C. ; Edelman, P. ; Jastrzebski, L.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on High Purity Silicon.  pp.544-553,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-13