1.

国際会議録
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1. Development of automatic OPC treatment and layout decomposition for double dipole lithography for low-k1 imaging
Chiou, T.-B. ; Chen, A. C. ; Hsu, S. D. ; Eurlings, M. ; Hendrickx, E.
出版情報: Advanced microlithography technologies : 8-10 November, 2004, Beijing, China.  pp.21-31,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5645
2.

国際会議録
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2. Progress in 193nm immersion lithography at IMEC
Ronse, K. ; Vandenberghe, G. ; Hendrickx, E. ; Leunissen, L. H. A. ; Aksenov, Y.
出版情報: EMLC 2005 : 21st European Mask and Lithography Conference : 31 January-3 February, 2005, Dresden, Germany.  pp.6-12,  2005.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5835
3.

国際会議録
国際会議録
3. Optical extensions integration for a 0.314-μm2 45-nm node 6-transistor SRAM cell
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing III : 3-4 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.120-130,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5756
4.

国際会議録
国際会議録
4. Comparative study of bi-layer attenuating phase-shifting masks for hyper-NA lithography [6283-123]
Yoshizawa, M. ; Philipsen, V. ; Leunissen, A. H. L. ; Hendrickx, E. ; Jonckheere, R. ; Vandenberghe, G. ; Buttgereit, U. ; Becker, H. ; Koepernik, C. ; Irmscher, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831G-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
5.

国際会議録
国際会議録
5. Early learning on hyper-NA lithography using two-beam immersion interference [6154-70]
Hendrickx, E. ; Op de Beeck, M. ; Gronheid, R. ; Versluijs, J. ; Van Look, L. ; Ercken, M. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61541X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
6.

国際会議録
国際会議録
6. Pattern displacement induced by lens aberrations
Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.G. ; Colina, A. ; van der Hoff, A. ; Dusa, M.V. ; Finders, J.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1155-1162,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
7.

国際会議録
国際会議録
7. Optical extensions towards the 45-nm node
Hendrickx, E. ; Monnoyer, P. ; Van Look, L. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.357-368,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
8.

国際会議録
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8. Implementation of pattern-specific illumination pupil optimization on Step & Scan systems
Engelen, A. ; Socha, R.J. ; Hendrickx, E. ; Scheepers, W. ; Nowak, F. ; Van Dam, M. ; Liebchen, A. ; Faas, D.A.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1323-1333,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

国際会議録
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9. Experimental verification of a model-based decomposition method for double dipole lithography
Eurlings, M. ; Hsu, S.D. ; Hendrickx, E. ; op 't Root, W. ; Laidig, T.L. ; Chiou, T.-B. ; Chen, A. ; Chen, F. ; Vandenberghe, G. ; Finders, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1225-1236,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
10.

国際会議録
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10. Double dipole lithography for 65-nm node and beyond: a technology readiness review
Hsu, S.D. ; Eurlings, M. ; Hendrickx, E. ; Van Den Broeke, D.J. ; Chiou, T.-B. ; Chen, J.F. ; Laidig, T.L. ; Shi, X. ; Finders, J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.481-498,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446