1.

国際会議録
国際会議録
1. *MEASUREMENTS OF SiH3 AND SiH2 RADICAL DENSITIES IN RF SILANE PLASMAS USING LASER SPECTROSCOPIC TECHNIQUES
Goto, T.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1993 : Symposium held April 13-16, San Francisco, California, U.S.A..  pp.3-12,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 297
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Magnictic Properties of NdCo3 and its r Phase Hydride NdCo3H4.1
Bartashevich, M.I. ; Koui, K. ; Goto, T. ; Yamaguchi, M. ; Yamamoto, I. ; Sugaya, F.
出版情報: NASA Technical Reports.  pp.1-25,  1993.  National Aeronautics and Space Adminstration