1.

国際会議録
国際会議録
1. Parametric Study of Plasma Uniformity in a Dome-Shaped Inductively Coupled Plasma Reactor
Economou, D.J. ; Feldsien, J.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.260-267,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9
2.

国際会議録
国際会議録
2. A Two-Dimensional Model of Chemical Vapor Infiltration with Radio Frequency Heating
Midhas, V. ; Economou, D.J.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.528-535,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25