1.

国際会議録
国際会議録
1. A TCAD Simulation Tool for Inductively Coupled Plasmas and Ex- perimental Validation
Economou, D.J. ; Wise, R.S. ; Lymberopoulos, D.P.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.11-19,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録
国際会議録
2. Direct Simulation Monte Carlo (DSMC) of Low-Pressure Semicon- ductor Manufacturing Processes
Economou, D.J. ; Bartel, T.J.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.70-82,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
3.

国際会議録
国際会議録
3. Chemical vapor deposition of Aluminum and Gallium Nitride thin films from metal organic precursors
Economou, D.J. ; Hoffman, D.M. ; Rangarajan, S.P. ; Athavale, S.D. ; Liu, J.-R. ; Zheng, Z. ; Chu, W.-K.
出版情報: Proceedings of the First Symposium on III-V Nitride Materials and Processes.  pp.69-75,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-11