1.

国際会議録
国際会議録
1. Use of Non-Contact Resistivity Measurements for Epitaxy: Surface Charge Profiler Method
Danel, A. ; Tardif, F. ; Kamarinos, G. ; Nguyen, M.C.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on High Purity Silicon V.  pp.444-455,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-13
2.

国際会議録
国際会議録
2. Use of Non-Contact Techniques in Characterization of Silicon Epi Growth Process
Nguyen, M.C. ; Danel, A.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on High Purity Silicon V.  pp.432-443,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-13
3.

国際会議録
国際会議録
3. Sensitivity of the surface charge profiler (SCP) method for some monitoring applications
Danel, A. ; Lardin, T. ; Kamarinos, G. ; Tardif, F.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Crystalline Defects and Contamination, their Impact and Control in Device Manufacturing II.  pp.394-403,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-22
4.

国際会議録
国際会議録
4. Detection of noble metals in HF based chemistries by microwave photoconductive decay (μ-PCD)
Tardif, F. ; Joly, J.-P. ; Courteaux, A. ; Straube, U. ; Danel, A. ; Kamarinos, G.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Crystalline Defects and Contamination, their Impact and Control in Device Manufacturing II.  pp.385-393,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-22
5.

国際会議録
国際会議録
5. MONITORING OF NOBLE METALS IN HF BASED CHEMISTRIES USING μ-PCD,SPV,SCI, and SCP
Danel, A. ; Straube, U. ; Kamarinos, G. ; Kamieniecki, E. ; Tardif, F.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.400-407,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35