1.

国際会議録
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1. Binary Cr etch process control directed at the 45nm node [6283-25]
Plumhoff, J. ; Westernman, R. ; Constantine, C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
2.

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2. Evalution of 193-nm alternating-aperture phase-shift mask dry etch processes
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Reelfs, B. ; Rausa, E. ; Benz, J.M. ; Hibbs, M.S. ; Brunner, T.A.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.253-263,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
3.

国際会議録
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3. Improving feature-size linearity for alternating phase-shift mask applications utilizing a next-generation ICP source
Shin, J. ; Constantine, C. ; Plumhoff, J. ; Rausa, E.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.679-683,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
4.

国際会議録
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4. Improvements in MoSi EAPSM CD bias and iso-dense linearity plasma etch results utilizing design of experiments process optimization of Gen III ICP plasma source
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Rausa, E.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.291-302,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
5.

国際会議録
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5. Comparative evaluation of e-beam sensitive chemically amplifild resists for mask making
Irmscher, M. ; Beyer, D. ; Butschke, J. ; Constantine, C. ; Hoffmann, T. ; Koepernik, C. ; Krauss, C. ; Leibold, B. ; Letzkus, F. ; Mueller, D. ; Springer, R. ; Voehringer, P.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.176-187,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
6.

国際会議録
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6. Back to square 9: a demonstration of 9-in. reticle capability
Cummings, K.D. ; Schneider-Stoermann, L.U. ; Buttgereit, U. ; Irmscher, M. ; Mueller, D. ; Hudek, P. ; Beyer, D. ; Brendel, B. ; Whittey, J.M. ; Eynon, B.G. ; Harsch, J. ; Constantine, C. ; Miller, K.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.15-24,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
7.

国際会議録
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7. Quartz etch process to improve etch depth linearity and uniformity using Mask Etcher IV
Srinivasan, S. ; Plumhoff, J. ; Westerman, R. ; Johnson, D. J. ; Constantine, C.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.176-182,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
8.

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8. Achieving 65-nm design rule dry etch performance: a study of CD bias, uniformity, and linearity on binary chrome photomasks
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Reelfs, B.H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.88-93,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
9.

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9. 90-nm mask making processes using the positive tone chemically amplified resist FEP171
Butschke, J. ; Beyer, D. ; Constantine, C. ; Dress, P. ; Hudek, P. ; Irmscher, M. ; Koepernik, C. ; Krauss, C. ; Plumhoff, J. ; Voehringer, P.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.344-354,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
10.

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10. Improvements in binary chrome CD performance utilizing an optimized 4th-generation reactor platform
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Reelfs, B. ; Rausa, E.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.736-743,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256