1.

国際会議録
国際会議録
1. AIGaN and GaN Ultraviolet Photodetectors
Hickman, R. ; Van Hove, J.M. ; Klaassen, J.J. ; Polley, C.J. ; Wowchack, A.M. ; Chow, P.P. ; King, D.J. ; Pearton, S.I. ; Jung, K.B. ; Cho, H.
出版情報: Proceedings of the State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCs XXX).  pp.201-209,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-4
2.

国際会議録
国際会議録
2. Plasma Etching of NiFeCo, NiMnSb and CoFeB-Based Multilayers
Jung, K.B. ; Cho, H. ; Feng, T. ; Park, Y.D. ; Pearton, S.I. ; Caballero, J.A. ; Childress, J.R. ; Ren, F.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Sympposium on Magnetic Materials, Processes, and Devices : applications to storage and microelectromechanical systems (MEMS).  pp.105-114,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-20
3.

国際会議録
国際会議録
3. Photoelectrochemical Etching of InxGa1-xN
Cho, H. ; Donovan, S. M. ; Abernathy, C. R. ; Pearton, S. J. ; Ren, F. ; Han, J. ; Shul, R. J.
出版情報: GaN and related alloys : symposium held November 30-December 4, 1998, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.G6.40.1-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 537
4.

国際会議録
国際会議録
4. Inductively Coupled Plasma Etching of III-Nitrides in Cl2/Xe, Cl2/Ar and Cl2/He
Cho, H. ; Hahn, Y. B. ; Hays, D. C. ; Jung, K. B. ; Donovan, S. M. ; Abernathy, C. R. ; Pearton, S. J. ; Shul, R. J.
出版情報: GaN and related alloys : symposium held November 30-December 4, 1998, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.G6.56.1-,  1999.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 537
5.

国際会議録
国際会議録
5. Selective dry etching of the GaN/InN/AlN, GaAs/AlGaAs and GaAs/InGaP systems
Hays, D.C. ; Abernathy, C.R. ; Hobson, W.S. ; Pearton, S.J. ; Han, J. ; Shul, R.J. ; Cho, H. ; Jung, K.B. ; Ren, F. ; Hahn, Y.B.
出版情報: Compound semiconductor surface passivation and novel device processing : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.281-286,  1999.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 573
6.

国際会議録
国際会議録
6. Dry etching to form submicron features in CMR oxides: (Pr, Ba,Ca)MnO3 and (La,Sr)MnO3
Lee, K. P. ; Jung, K. B. ; Cho, H. ; Kumar, D. ; Pietambaram, S. V. ; Singh, R. K. ; Hogan, P. H. ; Dahmen, K. H. ; Hahn, Y. B. ; Pearton, S. J.
出版情報: Multicomponent oxide films for electronics : symposium held April 6-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.341-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 574